單單從膜厚儀測(cè)試來(lái)說(shuō)的話，真空鍍膜和光學(xué)鍍膜有以下區(qū)別：
1、真空鍍膜：一般TiN,CrN，TiC，ZrN，電鍍出來(lái)的厚度大概是3~5微米。一般情況真空鍍膜的厚度是在設(shè)備上測(cè)試不出來(lái)了；
2、光學(xué)鍍膜的膜厚測(cè)試可以在鍍膜機(jī)的中間頂上裝置膜厚測(cè)試儀即可。
最早的是光控測(cè)試，現(xiàn)在一般用晶控（晶振片）使用的是晶振片震動(dòng)的頻率來(lái)測(cè)試鍍膜的厚度。不同膜層的厚度不同。
